等離子清洗機利用等離子在低溫下產生非平衡電子、反應離子和自由基的能力。等離子體中的高能反應基團轟擊表面，導致濺射、熱蒸發或光降解。等離子清洗機利用等離子體中各種高能物質的活化，*剝離和去除物體表面吸附的污垢。目前，等離子清洗機主要分為兩類，一類是大氣等離子清洗機，另一類是真空等離子清洗機。
 

　　大氣等離子清洗機由等離子發生器、輸氣管道、等離子噴嘴等部件組成。等離子體發生器產生的高壓高頻能量在噴嘴鋼管內被激活和控制的輝光放電中產生低溫等離子體。等離子體通過壓縮空氣噴射到工件表面。當等離子體遇到待處理物體的表面時，物體會發生變化和化學反應。表面已清洗干凈，并有碳化氫污染物，如油脂和輔助添加劑等。已經被移除。這些基因可以促進各種涂層材料的粘附，并在粘附和涂料應用中得到優化。在相同的效果下，通過應用等離子體處理表面可以獲得非常薄的高壓涂層表面，這有利于粘合、涂覆和印刷。不需要機械和化學處理等其他強作用部件來增加粘附性。
 

　　真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空室、機械等部分組成。真空系統和真空室可根據客戶的特殊要求定制。采用數控技術容易，自動化程度高。采用高精度控制裝置，時間控制精度非常高;正確的等離子清洗不會在表面產生損傷層，保證了表面質量。由于清潔是在真空中進行的，因此不會污染環境，清潔表面不會被第二次污染。
 

　　真空等離子清洗機是氣體分子在真空和放電等特殊場合產生的物質。用于產生等離子體的等離子體清潔/蝕刻裝置布置在密封容器中。它廣泛應用于表面脫脂和清洗的等離子刻蝕、聚四氟乙烯(PTFE)和聚四氟乙烯混合物的刻蝕、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗、等離子電鍍聚合等工藝，因此也應用于汽車電子、軍事電子和印刷電路板制造行業等高精度領域。
 

　　真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場，并使用真空泵達到一定的真空度。隨著氣體變得越來越稀薄，分子間距和分子或郭的自由運動距離變得越來越長。在磁場的作用下，發生碰撞形成等離子體。與此同時，輝光將會出現。等離子體在電磁場中空間移動，轟擊待處理物體的表面，去除油污和表面氧化物、灰表面有機物和其他化學物質，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。選擇性表面改性可以通過等離子體處理工藝實現。